- Klinicky dokázané, že odstraňuje 99 % nečistôt, mastnoty a zvyškov make-upu a je 35-krát hygienickejšia ako kefy s nylonovými štetinami.
- Na odstránenie nečistôt z pórov využíva pulzy T-SonicTM a zamatovo jemné silikónové nopky.
- T-Sonic pulzácie uvoľňujú svaly tváre a zvyšujú prenikanie zložiek do pokožky.
- 16 úrovní intenzity T-Sonic™ rozdelených na jemný režim, normálny režim a režim hlbokého čistenia.
- 4 spevňujúce masážne procedúry riadené aplikáciou a 5 manuálnych spevňujúcich masážnych procedúr.
- Synchronizuje sa s aplikáciou FOREO For You na správu vašich nastavení a postupov.
- Zaručuje až 600 použití a 8000 pulzácií.
- Produkt obsahuje: LUNA™ 4, USB nabíjací kábel, príručku, všeobecný návod a 2-ročnú záruku.
- Vyrobené zo silikónu odolného voči baktériám, 100% vodotesné a ľahko sa čistí.
- Vegánsky produkt a netestovaný na zvieratách.
- Ak chcete získať papierovú verziu návodu na použitie, kontaktujte naše oddelenie služieb zákazníkom.
Kefka na čistenie a spevnenie pokožky tváre FOREO LUNA™ 4 Sensitive Skin
*-15 % V APPKE
349,90 €
Farba: fialová
ONE SIZE
SUMMER SALE AŽ -50 %
*-15 % na vybrané produkty v aplikácii.
DOPRAVA ZADARMO od 60 €
Odoslanie aj do 24 hodínVRÁTENIE A REKLAMÁCIA
Vrátenie do 30 dníKefka na čistenie a spevnenie pokožky tváre FOREO LUNA™ 4 Sensitive Skin
Kefka na čistenie a spevnenie pokožky tváre z kolekcie FOREO. Model vyrobený zo silikónu.
Údaje o produkte
- Kód výrobcu
- F1252
- Farba
- fialová
- Značka
- FOREO
- Výrobca
FOREO AB
KARLAVÄGEN 41, STOCKHLOM 114 31 SE - SWEDEN customercare@foreo.com- ID produktu
- 99KK-EGU121_48X
Zloženie
Silikón
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
-13%
*EXTRA -5 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*EXTRA -5 % V APPKE
-50%
*EXTRA -5 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
-50%
*EXTRA -5 % V APPKE
*-30 % V APLIKÁCII
*-15 % V APPKE
*-30 % V APLIKÁCII
*EXTRA -5 % V APPKE
-11%
*EXTRA -5 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-25 % V APPKE
-50%
*EXTRA -5 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-30 % V APLIKÁCII
*-25 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
*-15 % V APPKE
